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下出料CVD气相沉积/碳化炉

下出料CVD气相沉积/碳化炉

设备用途:主要用于CVD和CVI工艺制备C/C、C/SiC及… 【详情】
大型卧式方形CVD气相沉积/高温炉

大型卧式方形CVD气相沉积/高温炉

设备特性:采用方形加热室设计,相比圆形截面,在处理板材和方形… 【详情】
双并立式圆形CVD气相沉积炉

双并立式圆形CVD气相沉积炉

生产优势:采用双炉体并联设计,共用一套电源及控制系统,可实现… 【详情】
碳陶复合材料RMI烧结炉

碳陶复合材料RMI烧结炉

核心工艺:采用RMI(反应熔体浸渗)技术,依靠毛细管力使熔体… 【详情】
碳陶熔融渗硅炉

碳陶熔融渗硅炉

设备核心:用于硅元素在高温(最高2300℃)条件下渗透至碳陶… 【详情】
碳陶PIP烧结炉

碳陶PIP烧结炉

核心工艺:采用PIP(先驱体转化法),通过真空浸渍与高温裂解… 【详情】
碳陶裂解炉碳化炉

碳陶裂解炉碳化炉

设备核心:专用于C/C-SiC碳陶材料的高温裂解与碳化,最高… 【详情】
碳陶浸渍炉

碳陶浸渍炉

核心功能:专用于碳陶复合材料(C/C-SiC)的真空浸渍增密… 【详情】
小型气氛真空箱式炉

小型气氛真空箱式炉

设备定位:专为高校实验室、科研院所及企事业单位研发设计,满足… 【详情】
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