双并立式圆形CVD气相沉积炉

生产优势：采用双炉体并联设计，共用一套电源及控制系统，可实现交替加热运行，极大地提高了设备周转率与生产效率。

核心性能：最高设计温度达 2100℃，专为CVD沉积及CVI气相渗透工艺开发，适用于碳/碳复合材料的长周期致密化处理。

智能集成：配备多区精密钨铼热电偶、质量流量计及西门子PLC自动化控制，确保每一批次产品的沉积厚度与质量高度一致。

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产品简介 / Introduction

产品概述 / Overview

双并立式圆形CVD 气相沉积炉是远航工业炉为解决高性能复合材料（C/C, C/SiC）批量化生产而研制的高效系统。该设备通过在真空或保护气气氛下，将前驱气体引入高温反应室，在基底表面沉积形成致密涂层或通过气相渗透（CVI）填充孔隙，从而提升材料的力学性能。

图：远航工业炉-双并立式高效CVD沉积系统实拍

图：远航工业炉-CVD/CVI工艺精密反应室细节

远航工业炉支持“双炉并联”或“多工位”非标定制。

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