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下出料CVD气相沉积/碳化炉
设备用途:主要用于CVD和CVI工艺制备C/C、C/SiC及SiC/SiC等高性能复合材料。核心优势:下出料结构设计,极…
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双并立式圆形CVD气相沉积炉
生产优势:采用双炉体并联设计,共用一套电源及控制系统,可实现交替加热运行,极大地提高了设备周转率与生产效率。核心性能:最…
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真空回火炉
设备核心:主要用于模具钢、工具钢、钛合金的淬火后光亮回火,以及有色金属的光亮退火。核心优势:在真空状态下处理,确保工件表…
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立式真空钎焊炉
结构优势:采用立式单室、水平下装载结构,不仅利于大型工件的平稳取放,更确保了炉膛内部温场的极致均匀性。核心性能:常用工作…
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