石墨片（PI膜）碳化炉

产品概述

本系列 PI 膜碳化炉是高导热石墨材料生产的核心预处理设备。针对聚酰亚胺薄膜在碳化阶段产生的大量有机挥发分，设备采用了加强型水冷密封结构与分级焦油冷凝捕集装置。通过极佳的温场均匀性设计，确保石墨片在 950℃ 以内的排气过程均匀、稳定，为后续超高温石墨化工序打好基础。

核心应用优势

   
• 平整度控制： 优化的多区加热布局，配合 30 段微电脑控温曲线，实现缓慢升温脱焦，有效解决 PI 膜堆叠过程中的形变与起泡问题。

   
• 高效废气管理： 专用焦油捕集器配合大口径排气通道，能够实时冷凝并收集高浓度有机物，防止炉膛积碳与管路堵塞。

   
• 卓越密封性： 采用双层水冷法兰密封结构，耐挥发分腐蚀，确保长期在还原气氛下运行的气密性与安全性。

   
• 灵活定制化： 提供从 50L 实验型到 2000L 量产型等多种容积选择，支持按客户装料工艺定制内部料架结构。

技术参数表