
专为铍铜、无氧铜及各类铜合金设计的真空光亮时效方案。通过 ±0.1℃ 的极高控温精度,确保产品获得均匀的硬度与导电率;高真空保护技术彻底解决铜材在加热过程中的氧化发黑痛点,实现无色差、镜面光亮的出炉效果。
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本系列设备主要用于铍铜(QBe2, C17200等)的沉淀硬化时效处理以及无氧铜的去应力光亮退火。由于铜合金对氧极其敏感,本设备采用全密封不锈钢马弗罐,配合高真空系统或还原性保护气氛(H2/Ar/N2),确保工件在最高 950℃ 的环境下保持极高的表面化学稳定性,避免产生氧化皮。
| 参数项目 | 技术指标 |
|---|---|
| 额定温度 | 950℃(长期稳定运行) |
| 控温精度 | ±0.1℃(高精度微电脑调节) |
| 炉温均匀性 | ±3℃ 至 ±5℃(支持极精密定制) |
| 极限真空度 | 10-1 Pa(常规)至 10-3 Pa(高真空级) |
| 保护气氛 | N2, Ar, H2(流量、压力精准控制) |
| 出料方式 | 立式上出料/下出料/卧式(按需定制) |