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下出料
CVD
气相沉积/碳化炉
2023-07-01 15:37:14
【产品】
设备用途:主要用于
CVD
和CVI工艺制备C/C、C/SiC及SiC/SiC等高性能复合材料。核心优势:下出料结构设计,极大地便利了大尺寸、重型碳材工件的装卸与连续生产,最高设计温度达2100℃。技术保障:采用等静压石墨电阻加热与低压大电流控制,配备西门子PLC及15寸触摸屏,支持全自动工艺编程与数据导出。
大型卧式方形
CVD
气相沉积/高温炉
2023-07-01 15:30:25
【产品】
设备特性:采用方形加热室设计,相比圆形截面,在处理板材和方形工件时空间利用率提升30%以上。核心功能:集成了化学气相沉积(
CVD
)与气相渗透(CVI)工艺,最高温度可达2100℃,满足C/C、C/SiC等复合材料的长周期致密化需求。智能集成:集成式电源柜设计,配备多区精密控温与质量流量计,支持复杂工艺曲线的一键式编程运行。
双并立式圆形
CVD
气相沉积炉
2023-07-01 15:14:29
【产品】
生产优势:采用双炉体并联设计,共用一套电源及控制系统,可实现交替加热运行,极大地提高了设备周转率与生产效率。核心性能:最高设计温度达2100℃,专为
CVD
沉积及CVI气相渗透工艺开发,适用于碳/碳复合材料的长周期致密化处理。智能集成:配备多区精密钨铼热电偶、质量流量计及西门子PLC自动化控制,确保每一批次产品的沉积厚度与质量高度一致。
底装料多工位气相沉积炉
2020-07-20 08:59
【产品】
结构优势:采用底装料结构,极大地方便了大尺寸、重型工件的平稳装卸,减少了对炉膛及发热体的损伤风险。高效产出:支持1-3工位可选,可配备多路匀速旋转工作平台,确保涂层沉积的均匀度与批次稳定性。精密控温:最高工作温度1250℃,控温精度达±0.1℃。配备多路质量流量计与高效率冷凝收集器(收集率>90%),满足各种复杂
CVD
工艺需求。
满足条件的文章
大家了解
CVD
化学气相沉积涂层吗?
2024-03-04 10:20:56
【文章】
CVD
化学气相沉积是一种常用的薄膜生长技术,利用气相反应在基底表面沉积薄膜。
CVD
技术广泛应用于半导体、光电、材料等领域,是一种高效、可控的薄膜制备方法。
CVD
气相沉积/碳化炉在哪些领域应用广泛?
2024-03-04 10:18:12
【文章】
CVD
气相沉积作为一种重要的薄膜制备技术,广泛应用于各种领域,其应用范围涉及电子、光电、纳米材料、光学涂层、生物医疗等多个领域。
请问下出料
CVD
气相沉积/碳化炉的原理及应用?
2024-03-04 10:15:42
【文章】
CVD
(化学气相沉积)是一种在高温下通过将气体中的原子或分子沉积到基底表面上来制备薄膜或其他材料的方法。碳化炉是一种专门用于进行碳化反应的设备。出料
CVD
气相沉积/碳化炉则是将这两种技术结合在一起,用于生产碳化材料或其他特定材料的设备。
CVD
化学气相沉积涂层的介绍
2023-07-01 14:10:44
【文章】
CVD
化学气相沉积涂层的介绍
CVD
气相沉积氮化钛
2023-07-01 14:08:09
【文章】
CVD
气相沉积氮化钛
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