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双并立式圆形CVD气相沉积炉
产品简介
生产优势：采用双炉体并联设计，共用一套电源及控制系统，可实现交替加热运行，极大地提高了设备周转率与生产效率。
核心性能：最高设计温度达 2100℃，专为CVD沉积及CVI气相渗透工艺开发，适用于碳/碳复合材料的长周期致密化处理。
智能集成：配备多区精密钨铼热电偶、质量流量计及西门子PLC自动化控制，确保每一批次产品的沉积厚度与质量高度一致。
电话咨询：15115399105
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产品概述 / Overview
双并立式圆形CVD气相沉积炉是远航工业炉为解决高性能复合材料（C/C, C/SiC）批量化生产而研制的高效系统。该设备通过在真空或保护气气氛下，将前驱气体引入高温反应室，在基底表面沉积形成致密涂层或通过气相渗透（CVI）填充孔隙，从而提升材料的力学性能。
图：远航工业炉-双并立式高效CVD沉积系统实拍
核心技术特征 / Features
- 🚀 双炉高效产出：一套电源系统支持双炉体，在二号炉降温出料时，一号炉可处于加热或沉积状态，无缝对接。
- 🔥 超高温环境：常用工作温度 2000℃，极限设计温度达 2100℃，确保沉积产物的结晶度与质量。
- 🔬 精密气流布气：多通道进气系统配有七星华创质量流量计，保证反应气体在圆形炉膛内的均匀分布。
- 💻 全自动工艺控制：采用西门子PLC结合日本岛电精密仪表，支持工艺参数的实时记录、查询与历史导出。
核心技术参数 / Specs
| 设备型号 | YHGYL-CJL系列（尺寸规格支持定制） |
| 加热方式 | 等静压石墨电阻加热（低压大电流控温） |
| 温度均匀度 | ≤ ±3℃（恒温阶段） |
| 冷态极限真空 | ≤ 5Pa |
| 控温精度 | ±0.1℃ |
| 真空系统 | 2H-150滑阀泵 + 电容薄膜真空规管反馈控制 |
典型应用领域 / Applications
- • 航空航天： 炭刹车盘、航空结构件的沉积强化。
- • 单晶/多晶硅： 炭-炭热场材料（埚托、导流筒、保温筒）生产。
- • 半导体行业： 高纯石墨件表面SiC涂层制备。
- • 新型碳材： 石墨烯、碳纳米管的制备研究。
图：远航工业炉-CVD/CVI工艺精密反应室细节
远航工业炉支持“双炉并联”或“多工位”非标定制。
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