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真空裂解炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。
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碳陶复合材料RMI烧结炉
在碳陶制作过程中，RMI是将热场加热到2000℃以上，依靠毛细管力使前驱体或者碳原气氛、硅原气氛分子渗入多孔碳预制体中，并且与预制体中的碳基体发生反应生成所设计的新基体的制备工艺。与CVI和PIP工艺^比，其效率高，一次熔渗即可制备得到几乎全致密的碳陶复合材料，是一种碳陶复合材料的高效率低成本制备工艺，为有效推进碳陶复合材料研发和应用提供助力
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无压碳化硅烧结炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。
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实验型碳化硅烧结炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。
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碳化硅烧结炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。
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碳陶熔融渗硅炉
碳陶熔融渗硅炉是用于硅元素能够在温度较高的条件下渗透到碳陶基体内部的一种工业加热炉，也叫渗硅炉或者熔渗、融渗炉等，可用于MTS、Ar、H2、天然气体等各种混合气体的熔渗。
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碳陶PIP烧结炉
碳陶PIP烧结炉设备可用于在汽车、高速列车、坦克、飞机等碳碳/碳陶高性能刹车盘的制备，碳陶PIP烧结炉是一种新型的高温烧结设备,主要用于碳陶复合材料的烧结制备工艺。其烧结性能和效果优良,广泛应用于航空、航天、军工、能源等领域。
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碳陶裂解炉碳化炉
碳陶C/C-SIC裂解炉是用于将碳陶瓷材料通过高温处理使其发生裂解分解的过程的一种加热炉，其适用于氮气或者真空气氛的加热炉。
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碳陶浸渍炉
目前，碳陶材料是由碳基复合胚体用液相硅浸渍而成。本设备为碳陶真空浸渍专用设备，碳陶复合材料（C/C-SiC）碳复合胚胎和PMS液体陶瓷通过真空将有机先驱体转化为无机陶瓷，最终通过自动多轮循环反复浸渍致密。
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陶瓷烧结/煅烧炉
此炉型是本公司新开发的一种烧结炉，相对一般烧结炉具有烧结时间长，达72小时以上功率损耗低，控温精度高≤0.1℃，炉内温度均匀性≤5℃，主要应用于各类陶瓷如氧化锆陶瓷烧结、氧化铝陶瓷烧结及其它陶瓷类的煅烧或者无压烧结、还原烧结用途。