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碳陶复合材料RMI烧结炉
核心工艺：采用RMI（反应熔体浸渗）技术，依靠毛细管力使熔体渗入多孔预制体并发生反应，实现快速致密化。效率优势：相比CVI和PIP工艺，RMI效率更高，一次熔渗即可获得近全致密的碳陶复合材料，大幅降低生产成本。精密控温：最高工作温度达2300℃，采用AI自学习PID技术，彻底解决低温段升温滞后问题，控温精度极高。
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碳陶熔融渗硅炉
设备核心：用于硅元素在高温（最高2300℃）条件下渗透至碳陶基体内部，显著提升材料硬度与抗磨损性能。技术优势：具备极高的压差控制能力，彻底解决加热及保温材料产生的二次硅蒸汽对工件的返流污染问题。多功能适配：支持圆形或方形炉膛定制，可用于MTS、Ar、H2、天然气等多种混合气体的复杂熔渗工艺。
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碳陶PIP烧结炉
核心工艺：采用PIP（先驱体转化法），通过真空浸渍与高温裂解，实现碳陶复合材料的致密化。温度可达2300℃。主要应用：专为汽车、高速列车、飞机等高性能碳碳/碳陶刹车盘的制备而设计，适合大型、复杂结构件成形。智能控制：配备高精度红外线与热电偶双重测温，PID智能化程序控温（±0.1℃），确保每一批次产品的热解质量一致性。
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碳陶裂解炉碳化炉
设备核心：专用于C/C-SiC碳陶材料的高温裂解与碳化，最高工作温度可达2300℃。技术优势：采用多面分区加热技术，温场均匀性极佳；具备防腐蚀屏蔽系统，有效保护保温材料及发热体免受挥发气体侵蚀。智能控制：支持真空及氮气压力自平衡自动控制，可选配快冷循环系统，大幅缩短生产周期。咨询热线：15115399105。
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碳陶浸渍炉
核心功能：专用于碳陶复合材料（C/C-SiC）的真空浸渍增密，将PMS等液体陶瓷有机先驱体高效转化为无机陶瓷。自动化优势：支持自动多轮循环浸渍及胚体增重自动计算，针对前驱体特性实现全内部空间防腐处理。工艺衔接：配备专用自动转运料车，可与远航系列碳化固化炉、烧结/裂解炉实现无缝衔接，打造自动化碳陶生产线。
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陶瓷烧结/煅烧炉
核心性能：专为先进陶瓷材料设计，支持超长烧结周期（达72小时以上），运行功率损耗极低。精密指标：控温精度高达±0.1℃，炉内温场均匀性优于±5℃，确保复杂形状陶瓷件的烧结一致性。应用广泛：适用于氧化锆、氧化铝陶瓷的煅烧、无压烧结及还原烧结工艺，是科研院所及高端制造企业的核心实验生产设备。
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真空裂解炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。
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无压碳化硅烧结炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。
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实验型碳化硅烧结炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。
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碳化硅烧结炉
小型气氛真空箱式炉是本公司新开发的一种新型炉型，控温精度高≤0.1℃，温度均匀性好±2℃，温度可达2300℃。占地面积小，周转灵活。特别适合于小批量生产或者实验室使用。