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下出料CVD气相沉积/碳化炉
化学气相沉积（ChemicalVaporDeposition，CVD）：在化学气相沉积中，通过将反应气体中的前驱物质（通常是有机化合物或金属有机化合物）引入反应室，并在高温下使其发生热分解或化学反应，生成反应产物，沉积到基底上形成薄膜。这种方法可以用于制备金属、合金、半导体和陶瓷，主要用于CVD和CVI工艺制备C/C、C/SIC及SIC/SIC复合材料制备等材料制备。
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大型卧式方形CVD气相沉积/高温炉
化学气相沉积（ChemicalVaporDeposition，CVD）：在化学气相沉积中，通过将反应气体中的前驱物质（通常是有机化合物或金属有机化合物）引入反应室，并在高温下使其发生热分解或化学反应，生成反应产物，沉积到基底上形成薄膜。这种方法可以用于制备金属、合金、半导体和陶瓷，主要用于CVD和CVI工艺制备C/C、C/SIC及SIC/SIC复合材料制备等材料制备。
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双并立式圆形CVD气相沉积炉
化学气相沉积（ChemicalVaporDeposition，CVD）：在化学气相沉积中，通过将反应气体中的前驱物质（通常是有机化合物或金属有机化合物）引入反应室，并在高温下使其发生热分解或化学反应，生成反应产物，沉积到基底上形成薄膜。这种方法可以用于制备金属、合金、半导体和陶瓷，主要用于CVD和CVI工艺制备C/C、C/SIC及SIC/SIC复合材料制备等材料制备。
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真空回火炉
本公司生产的真空回火炉，适用于高速钢、模具钢、工具钢、合金钢、钛合金等材料淬火后光亮回火。软磁材料、硅钢片、电工纯铁、铜合金等材料的光亮退火。以消除锻件、焊接件、冷冲压件、工件淬火后残余内应力，防止工件变形开裂。
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立式真空钎焊炉
本立式真空钎焊炉主要用于各种高温合金、不锈钢等材料叶片的真空钎焊。设备为立式、单室结构，水平下装载，外循环，钼镧合金加热，全自动控制具有良好的用户界面，使用户的操作和监测都更加简单和直观。本设备具有结构设计先进合理，主要配套产品和功能元器件都选用国际进口，具有先进的水平和较优越的性能，能够适应长期、安全、稳定、可靠运行，满足用户的使用要求。