返回上一页

新材料专用炉

取消

首页 > 产品频道 > 新材料专用炉

珠宝首饰光亮退火炉

珠宝首饰光亮退火炉

专为黄金、白银、铂金及K金首饰设计的真空光亮热处理方案。采用高真空排气与还原性气氛保护,确保珠宝在退火过程中不产生氧化皮、无变色,完美保持金属原始的色泽与亮度,大幅降低后期抛光损耗。
电力电子管壳脱气/钎焊炉

电力电子管壳脱气/钎焊炉

专为大功率电力电子管壳、IGBT模块、真空开关管及陶瓷金属连接件设计的高真空钎焊与脱气方案。通过深度真空脱气与氢气还原工艺,实现无助焊剂钎焊,确保焊缝组织均匀、气密性优异且表面洁净度极高,显著延长真空器件的使用寿命。
高强钢回火炉

高强钢回火炉

专为高强钢、超高强钢及精密模具钢设计的真空回火方案。在真空或高纯惰性气体保护下,有效消除淬火残留应力,精密控制强韧性匹配,同时彻底杜绝表面氧化与脱碳现象,确保零件获得卓越的力学性能与尺寸稳定性。
炭黑/活性炭改性炉

炭黑/活性炭改性炉

专为炭黑、活性炭及复合碳材料设计的表面改性与热处理方案。设备在400-950℃范围内通过精准的30段控温,有效去除杂质官能团、调控孔隙结构。配合焦油捕集与尾气排放系统,确保改性过程环保稳定,显著提升材料的导电性、吸附力及化学活性。
锂电负极预碳化炉

锂电负极预碳化炉

专为锂电负极材料(沥青包覆)、石墨及PI膜设计的预碳化处理方案。设备运行于400-950℃,配备专门的焦油捕集与尾气处理通道,通过精准的30段控温曲线控制挥发分排出,显著提升负极材料的首次充放电效率(首效),为后续高温石墨化打下坚实基础。
下出料CVD气相沉积/碳化炉

下出料CVD气相沉积/碳化炉

设备用途:主要用于CVD和CVI工艺制备C/C、C/SiC及SiC/SiC等高性能复合材料。核心优势:下出料结构设计,极大地便利了大尺寸、重型碳材工件的装卸与连续生产,最高设计温度达2100℃。技术保障:采用等静压石墨电阻加热与低压大电流控制,配备西门子PLC及15寸触摸屏,支持全自动工艺编程与数据导出。
大型卧式方形CVD气相沉积/高温炉

大型卧式方形CVD气相沉积/高温炉

设备特性:采用方形加热室设计,相比圆形截面,在处理板材和方形工件时空间利用率提升30%以上。核心功能:集成了化学气相沉积(CVD)与气相渗透(CVI)工艺,最高温度可达2100℃,满足C/C、C/SiC等复合材料的长周期致密化需求。智能集成:集成式电源柜设计,配备多区精密控温与质量流量计,支持复杂工艺曲线的一键式编程运行。
双并立式圆形CVD气相沉积炉

双并立式圆形CVD气相沉积炉

生产优势:采用双炉体并联设计,共用一套电源及控制系统,可实现交替加热运行,极大地提高了设备周转率与生产效率。核心性能:最高设计温度达2100℃,专为CVD沉积及CVI气相渗透工艺开发,适用于碳/碳复合材料的长周期致密化处理。智能集成:配备多区精密钨铼热电偶、质量流量计及西门子PLC自动化控制,确保每一批次产品的沉积厚度与质量高度一致。
真空回火炉

真空回火炉

设备核心:主要用于模具钢、工具钢、钛合金的淬火后光亮回火,以及有色金属的光亮退火。核心优势:在真空状态下处理,确保工件表面无氧化、低变形;能彻底消除锻造、焊接及淬火后的残余应力,防止开裂。技术规格:最高温支持700℃/1100℃,极限真空度达5X10⁻³Pa,配备2bar气冷系统,实现高效均匀热处理。
铝镁合金气氛炉

铝镁合金气氛炉

专为SLM/DMLS金属3D打印铝合金、镁合金及航空级精密零件设计的去应力方案。通过高真空或高纯氩气环境,在不改变零件表面物理特性的前提下,精准消除加工内应力,有效解决复杂薄壁件的变形与开裂难题,确保零件表面光亮无氧化。
在线客服系统