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下出料CVD气相沉积/碳化炉
设备用途：主要用于CVD和CVI工艺制备C/C、C/SiC及SiC/SiC等高性能复合材料。核心优势：下出料结构设计，极大地便利了大尺寸、重型碳材工件的装卸与连续生产，最高设计温度达2100℃。技术保障：采用等静压石墨电阻加热与低压大电流控制，配备西门子PLC及15寸触摸屏，支持全自动工艺编程与数据导出。
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大型卧式方形CVD气相沉积/高温炉
设备特性：采用方形加热室设计，相比圆形截面，在处理板材和方形工件时空间利用率提升30%以上。核心功能：集成了化学气相沉积（CVD）与气相渗透（CVI）工艺，最高温度可达2100℃，满足C/C、C/SiC等复合材料的长周期致密化需求。智能集成：集成式电源柜设计，配备多区精密控温与质量流量计，支持复杂工艺曲线的一键式编程运行。
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双并立式圆形CVD气相沉积炉
生产优势：采用双炉体并联设计，共用一套电源及控制系统，可实现交替加热运行，极大地提高了设备周转率与生产效率。核心性能：最高设计温度达2100℃，专为CVD沉积及CVI气相渗透工艺开发，适用于碳/碳复合材料的长周期致密化处理。智能集成：配备多区精密钨铼热电偶、质量流量计及西门子PLC自动化控制，确保每一批次产品的沉积厚度与质量高度一致。
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真空回火炉
设备核心：主要用于模具钢、工具钢、钛合金的淬火后光亮回火，以及有色金属的光亮退火。核心优势：在真空状态下处理，确保工件表面无氧化、低变形；能彻底消除锻造、焊接及淬火后的残余应力，防止开裂。技术规格：最高温支持700℃/1100℃，极限真空度达5X10⁻³Pa，配备2bar气冷系统，实现高效均匀热处理。
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立式真空钎焊炉
结构优势：采用立式单室、水平下装载结构，不仅利于大型工件的平稳取放，更确保了炉膛内部温场的极致均匀性。核心性能：常用工作温度1320℃，极限真空度可达5.0×10⁻⁴Pa，配备钼镧合金发热元件，实现无氧化、高质量钎焊。智能集成：全自动控制系统，具备完善的故障自诊断与工艺管理功能，支持0.5Bar至10Bar的绝对压力充气调节，满足严苛的工艺需求。