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气氛真空箱式炉
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小型气氛真空箱式炉
设备定位：专为高校实验室、科研院所及企事业单位研发设计，满足小批量新材料生产需求。核心性能：最高温度可达2300℃，控温精度高达±0.1℃，温度均匀性优于±2℃。多能合一：集成气氛保护与真空功能，采用AI自学习PID温控曲线拟合技术，确保全量程（室温至2300℃）温控高度精确。
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