核心应用：专用于PI膜（聚酰亚胺）、锂电负极材料、碳纤维灯丝及各种碳材料的超高温石墨化生产。技术指标：最高设计温度3000℃，常用工作温度2900℃。极限升温速度达200℃/分钟（空炉），温控精度±1℃。设备亮点：采用高效中频电源感应加热，配合加厚氧化铝隔热材料，热损失小。坩埚底部采用高强度硬质复合毡支撑，易损件寿命比同类产品高1.2倍。