真空炉中的硅碳棒电气特性

硅碳棒是真空炉中常用的加热元件，那么真空炉中的加热元件什么是硅碳棒？这个类似金属的棒是怎么形成的？它的作用是什么？

真空淬火的主要目的是改善和强化金属构件的质量，特别是表面层的质量。对于工具钢而言，真空滓火后可以保证足够的硬度要求，而且表面光亮度好，变形小，硬度高且均匀，使用寿命长，后加工工艺简单，生产周期短。

渗氮处理(nitriding/nitridation)是指在低于钢的临界点Aa、基体不发生相变的前提下，将活性氮原子渗入钢表层，形成氮化物硬化层的化学热处理工艺。

真空泵的运用非常普遍，可是制造行业内有很多专业术语，并不是行专业人士难以铭记，常常听见有些人弄错和讲错，在这里，文中帮大伙儿将这种技术性专业术语分类整理，便于大伙儿掌握真空泵这一制造行业。

真空退火工艺是指在低于一个大气压的条件下，将工件缓慢加热到规定的温度，并保温一段时间，然后再将工件按工艺规定的冷却方式冷却到室温的过程。不同的材料金属或者金属合金需要不同的退火工艺

金属复合材料在历经电焊焊接、锻造、煅造、冷轧、拉拨等生产加工以后，通常存有较高的残留应力、结晶体机构粗壮、成份缩松，从而造成强度过高或过低无法切削生产加工、残留应力较高切削生产加工后规格精密度及表面表面粗糙度无法确保、物理性能拙劣造成零件形变及裂开等难题。一般退火做为一种普遍应用的热处理方法能不错处理所述难题。而真空退火除开能清除残留应力、变软原材料、优化晶体、改进机构、提升工程力学特性等以外，也有好于一般退火的特性

为了研究方便，根据低压下气体的性质、抽气手段、测量方法等方面，通常将真空度粗略地划分为几个区域

薄膜沉积是半导体元器件生产制造全过程中的一个关键步骤，根据薄膜沉积工艺能够在圆晶上生长发育出各种各样导电性薄膜层和绝缘层薄膜层，为事后工艺奠定基础。依据原理不一样，薄膜沉积工艺可分成物理学工艺、有机化学工艺和外延性工艺三大类，需要的机器设备是薄膜沉积机器设备。文中是薄膜沉积机器设备的第一篇。薄......

抗氧化抗烧蚀CVD气相沉积涂层的目的及方法